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(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123191571.2 (22)申请日 2021.12.18 (73)专利权人 苏州简单有为科技有限公司 地址 215200 江苏省苏州市吴江区东太湖 生态旅游度假区(太湖新城)开平路 789号金城大厦1610室 (72)发明人 戴逢焱 (51)Int.Cl. A47L 11/282(2006.01) A47L 11/40(2006.01) (54)实用新型名称 一种基座及清洁系统 (57)摘要 本实用新型公开了一种基座及清洁系统, 基 座用于对接表 面清洁设备。 基座包括限定有容纳 空间的壳体, 用于容纳 表面清洁设备的至少部分 清洁头。 壳体设置有风机, 用于产生气流。 基座还 包括导流风道, 至少部分设置于壳体内, 导流风 道用于将风机产生的气流引导至容纳空间, 包括 第一风道和位于第一风道下游的第二风道, 第二 风道的底部开设有与大气连通的通孔; 其中, 第 一风道内设置有加热器, 加热器的最低端高于第 二风道的最底端。 采用这种设置, 可以有效保护 加热器, 避免加热器在自清洁的过程中损坏。 权利要求书1页 说明书5页 附图8页 CN 216628415 U 2022.05.31 CN 216628415 U 1.一种基座, 用于对接表面清洁设备, 其特 征在于, 包括 壳体, 限定有容纳空间, 用于容纳表面清洁设备的至少部分清洁头; 风机, 用于产生气流, 导流风道, 至少部分所述导流风道设置于所述壳体内, 所述导流风道用于将所述风机 产生的气流引导至所述容纳空间, 包括第一风道和位于第一风道下游的第二风道, 所述第 二风道的底部开设有与大气连通的通 孔; 其中, 所述第一风道内设置有加热器, 所述加热器的最低端高于所述第二风道的最底 端。 2.如权利要求1所述的基座, 其特 征在于, 所述容纳空间内设置有两个基本相互平行的滚刷腔, 用于分别容纳所述清洁头的两个 刷辊。 3.如权利要求2所述的基座, 其特 征在于, 所述第二 风道的出风口设置 于两个所述滚刷腔之间。 4.如权利要求3所述的基座, 其特 征在于, 所述出风口 的出风方向基本平行与所述刷辊的轴向方向。 5.如权利要求3所述的基座, 其特 征在于, 所述壳体包括主体和设置于所述主体上的托盘, 所述托盘设置有用于将从所述第 二风 道的出风口吹出的气流引导至 两个所述滚刷腔的分配风道。 6.如权利要求5所述的基座, 其特 征在于, 所述托盘设置有溢水孔。 7.如权利要求5所述的基座, 其特 征在于, 所述第二 风道包括水平段和提升段, 所述加热器的最低端高于所述水平段的最高端。 8.如权利要求7 所述的基座, 其特 征在于, 所述提升段包括依次导通的上升部、 水平部和下降部, 所述下降部的出风口低于所述 水平部。 9.如权利要求5所述的基座, 其特 征在于, 所述托盘包括第 一托盘和可拆卸连接于所述第 一托盘上方的第 二托盘, 所述第 一托盘 和所述第二 托盘之间限定出分配风道。 10.一种清洁系统, 其特 征在于, 表面清洁设备, 其包括用于对待清洁表面的进行清洁的清洁头; 如权利要求1 ‑9中任一项所述的基座, 用于对接所述表面清洁设备。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 216628415 U 2一种基座及清洁系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及清洁设备技 术领域, 尤其涉及一种基座及清洁系统。 背景技术 [0002]随着用户对湿式清洁设备的要求越来越高, 清洁设备上的功能也越来越更加完 善。 为了方便用户, 湿式清洁设备一般都会放置到基座上进行自清洁, 以方便下次使用, 湿 式清洁设备在 使用或者自清洁过后, 刷辊和/或基座上都会残留有 水渍, 如果水渍长时间存 在, 可能会使设备滋 生细菌, 从而产生异味。 [0003]因此, 基座上一般都会设置有烘干装置, 大部分烘干装置 都包括风机和加热器, 这 样, 可以快速对刷辊进 行烘干, 但是, 由于在 进行自清洁的过程中, 需要对刷辊供应清洁液, 清洁液很有可能会倒流到加热器处, 给加热器造成不可逆转的破坏。 实用新型内容 [0004]针对上述技术中存在的不足之处, 本实用新型提供了一种具有基座, 加加热器设 置于高于通 孔的位置, 可以有效保护加热器。 [0005]一方面, 本实用新型提供了一种基座, 用于对接表面清洁设备, 包括 [0006]壳体, 限定有容纳空间, 用于容纳表面清洁设备的至少部分清洁头; [0007]风机, 用于产生气流, [0008]导流风道, 至少部分所述导流风道设置于所述壳体内, 所述导流风道用于将所述 风机产生的气流引导至所述容纳空间, 包括第一风道和位于第一风道下游的第二风道, 所 述第二风道的底部开设有与大气连通的通 孔; [0009]其中, 所述第一风道内设置有加热器, 所述加热器的最低端高于所述第二风道的 最底端。 [0010]可选地, 所述容纳空间内设置有两个基本相互平行的滚刷腔, 用于分别容纳所述 清洁头的两个滚刷。 [0011]可选地, 所述第二 风道的出风口设置 于两个所述滚刷腔之间。 [0012]可选地, 所述出风口 的出风方向基本平行与所述滚刷的轴向方向。 [0013]可选地, 所述壳体包括主体和 设置于所述主体上的托盘, 所述托盘设置有用于将 从所述第二 风道的出风口吹出的气流引导至 两个所述滚刷腔的分配风道。 [0014]可选地, 所述 托盘设置有溢水孔。 [0015]可选地, 所述第二风道包括水平段和提升段, 所述加热器的最低端高于所述水平 段的最高端。 [0016]可选地, 所述提升段包括依次导通的上升部、 水平部和下降部, 所述下降部的出风 口低于所述水平部 。 [0017]可选地, 所述托盘包括第一托盘和可拆卸连接于所述第一托盘上方的第二托盘, 所述第一 托盘和所述第二 托盘之间限定出分配风道。说 明 书 1/5 页 3 CN 216628415 U 3
专利 一种基座及清洁系统
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